新闻资讯 - 江苏新越半导体科技有限公司

MEMS加工与半导体衬底材料：核心种类、工艺适配及应用前景
2025 / 12 / 04

MEMS作为融合微机械、微电子与材料科学的前沿技术，已广泛应用于智能手机、医疗设备、汽车电子等领域。在MEMS器件的研发与生产中，半导体衬底材料扮演着“地基”般的关键角色，其性能直接决定器件的精度、稳定性与应用场景。二者的深度融合，既是半导体技术迭代的必然结果，也是MEMS产业突破性能瓶颈的核心路径。
半导体衬底材料与MEMS代工协同，助力半导体器件产业升级
2025 / 11 / 28

在半导体产业高速发展的当下，半导体衬底材料、MEMS代工、半导体器件三大核心环节紧密关联，共同构成了产业链的核心支撑。作为产业链的基础，
深耕 MEMS 微纳加工：半导体材料如何驱动产业升级？
2025 / 11 / 26

在当今科技飞速发展的时代，半导体产业作为全球科技竞争的核心领域，其发展水平直接决定了一个国家的科技实力与产业竞争力。而半导体材料与 MEMS 微纳加工技术作为半导体产业的两大关键支柱，正不断推动着各类高科技产品的创新与升级，从智能手机、智能穿戴设备到航空航天、医疗设备等领域，都离不开它们的支撑。
半导体衬底材料SOI片怎么选？
2025 / 11 / 20

SOI片选型的核心是贴合应用场景，不同领域核心诉求差异显著：高频高速应用（射频芯片、毫米波器件）：侧重载流子迁移率、寄生参数抑制，优先选择绝缘层厚度均匀、顶层硅结晶质量高的产品。
定制未来：当半导体材料科学与MEMS加工技术深度融合
2025 / 11 / 13

从智能手机中的传感器到汽车的安全系统，再到医疗诊断设备，微机电系统（MEMS）已成为不可或缺的核心元件。而驱动MEMS器件实现多样化、高性能化发展的两大引擎，正是前沿的半导体材料定制与精密的MEMS加工技术。二者的深度融合，正以前所未有的力量，重塑着微纳世界的无限可能。
SiC 晶圆：第三代半导体材料的核心基石
2025 / 11 / 06
氮化镓晶片：重塑半导体格局的关键衬底材料
2025 / 10 / 30
氧化硅片：半导体产业的 “隐形基石”
2025 / 10 / 22

在半导体产业的精密链条中，衬底材料犹如 “地基”，决定着芯片的性能上限。而氧化硅片作为衬底家族的重要成员，凭借独特的物理化学特性，成为从基础研究到工业量产中不可或缺的关键材料，默默支撑着集成电路、光电子器件等领域的技术突破。
半导体硅片尺寸演进中的微纳加工技术：从毫米到纳米的突破之路
2025 / 10 / 16

在半导体产业发展中，半导体硅片作为芯片制造核心基底，尺寸升级深刻影响电子设备性能、成本与集成度，而微纳加工技术是贯穿演进的关键支撑 —— 既是硅片尺寸拓展的前提，也是挖掘有限硅片面积性能潜力的核心手段。从早期 2 英寸（50mm）硅片，到如今主流 12 英寸（300mm）硅片，再到未来 18 英寸（450mm）硅片研发，二者同频共振，推动产业突破物理极限。
晶圆与微纳加工：芯片世界的 “基石” 与 “雕刻刀”
2025 / 10 / 11

在数字时代的浪潮中，从智能手机到人工智能服务器，从新能源汽车到航天卫星，所有智能设备的核心都离不开一枚小小的芯片。而支撑芯片诞生的两大关键 —— 半导体晶圆与微纳加工技术，如同 “基石” 与 “雕刻刀”，共同构筑起全球科技产业的核心竞争力。
从微米到纳米：硅片与石英片如何协同推动半导体技术迭代
2025 / 09 / 30

在半导体产业的精密链条中，硅片与石英片如同支撑技术大厦的两根核心支柱。尽管二者常被同时提及，却拥有截然不同的物理特性与应用场景，共同推动着芯片制造从微米级向纳米级的突破。厘清二者的差异与协同关系，是理解半导体材料体系的关键所在。
晶圆镀膜的主流方式及应用解析
2025 / 09 / 25

在半导体产业中，晶圆作为芯片制造的核心基材，其性能提升与功能拓展离不开镀膜技术的支撑。晶圆镀膜通过在晶圆表面形成特定材质、厚度与结构的薄膜，实现绝缘、导电、保护等关键功能，是芯片从设计走向量产的重要环节。目前行业内主流的晶圆镀膜方式主要分为物理气相沉积（PVD）、化学气相沉积（CVD）和原子层沉积（ALD）三类，每种方式凭借独特的技术原理与优势，在不同芯片制造场景中发挥着不可替代的作用。