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光刻胶:光刻工艺中的“感光雕塑泥”,如何承载纳米图形?
光刻胶:光刻工艺中的“感光雕塑泥”,如何承载纳米图形?
2026 / 02 / 05
在半导体芯片制造的“微雕艺术”中,光刻工艺是核心技法,而光刻胶便是这场精细创作里的“感光雕塑泥”——它质地均匀、对光敏感,能精准复刻纳米级的细微图案,是连接设计蓝图与芯片实体的关键桥梁。这种被称为“光致抗蚀剂”的特殊材料,看似普通胶状,却能在光线的指引下,完成从平整薄膜到精密图形的蜕变,承载起芯片微型化的核心使命。
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